Auteur Sujet: Pb de dépôt silice colloïdale  (Lu 5051 fois)

0 Membres et 1 Invité sur ce sujet

archives

  • Full Member
  • ***
  • Messages: 148
    • Voir le profil
Pb de dépôt silice colloïdale
« le: mars 23, 2014, 05:59:43 pm »
10-03-2011
Bonjour,
Je suis ingénieur industrialisation dans une société qui travaille le saphir pour l'horlogerie.
Nous utilisons de la silice colloïdale pour polir chimiquement les glaces de montre.
Notre problème est que nous avons beaucoup de mal à éliminer le dépôt de silice colloïdale à la fin de l'opération pour contrôle et surtout pour réaliser des traitements de surfaces (PVD entre autre) sur les pièces
Pourriez-vous m'indiquer des produits ou une méthode permettant d'éliminer ces dépôts ?
Merci par avance
Fabrice JEANROY (<fabrice.jeanroy@rmontavon.ch> www.rmontavon.ch)

archives

  • Full Member
  • ***
  • Messages: 148
    • Voir le profil
Re : Pb de dépôt silice colloïdale
« Réponse #1 le: mars 23, 2014, 06:00:11 pm »
Juste après le polissage, passage aux ultrasons dans de l'eau très chaude pendant 1/4 h, puis, rinçage à l'éthanol aux ultrasons
Remarque, cette méthode n'est pas efficace à 100%
(réponse de Denis Boivin d'après Catherine Rio, ONERA)   

archives

  • Full Member
  • ***
  • Messages: 148
    • Voir le profil
Re : Pb de dépôt silice colloïdale
« Réponse #2 le: mars 23, 2014, 06:00:23 pm »
Finition à la silice colloïdale (syton) 0,04 µ SFI (LOGITECH) ramenée à un PH neutre avec de l'eau oxygénée (5ml de SFI et 8 ml de H2 O2), tissu PRESI Supra 3 Embossé, pression totale 240 gr, vitesse de rotation 60 t/mn, temps de polissage 3mn.- Nettoyage avec savon liquide, rinçage à l'eau et contrôle sur microscope métallographique- Dernière étape, rinçage dans l'éthanol et séchage avec l'air comprimé ou au sèche cheveux qui est particulièrement recommandé.
(réponse de Luc Beaunier, d'après http://www.gm.univ-montp2.fr/spip/IMG/pdf/Polissage.pdf )