Interactions ions-matière mises en jeu dans l'abrasion et le dépôt par voie ionique. Influence des conditions opératoires sur l'abrasion en faisceau d'ions.

Jean-Claude MENARD
Carl Zeiss

L'interaction faisceau d'électrons - matière a très largement été explorée et décrite ces trente dernières années.
La prise en compte du comportement des électrons primaires fonction de leurs débits, de leurs énergies, de leurs incidences sur un matériau quelconque, permet aujourd'hui à tous les utilisateurs d'apporter par le choix approprié des conditions opératoires, de nouvelles performances en imagerie et/ou en micro (nano) analyses.

L'avènement de nouveaux instruments conceptuellement très proches d'un microscope électronique à balayage mais capables de générer des ions introduit de nouvelles notions que l'utilisateur d'un FIB doit pouvoir appréhender pour obtenir les meilleurs résultats.
Quelles sont les interactions des ions avec les solides ?
Quelles informations sont produites suite à ces interactions
Quels sont les artefacts liés à l'utilisation d'ions et comment les minimiser ?
Quelles performances sont atteignables aujourd'hui et quelles sont les perspectives pour l'avenir ?

La présentation ne se veut pas exhaustive mais énumère la plupart des interactions et les moyens mis en œuvre pour optimiser l'utilisation d'un FIB.

Simulation de trajectoires d’ions Ga à 30 k V dans du Silicium.