PLASMA FIB : principes et applications.

Guillaume AUDOIT
Commissariat à l’énergie atomique et aux énergies alternatives
MINATEC Campus | 17 rue des martyrs | F-38054 Grenoble Cedex
guillaume.audoit@cea.fr

L’utilisation des FIB (Focused Ion Beam) traditionnels au Gallium pour la préparation d’échantillons pour des applications TEM, MEB, EBSD a pris une très grande importance ces dernières décennies depuis leur première commercialisation dans les années 90. La possibilité de précisément localiser les préparations sur un champ de quelques dizaines de microns grâce à un contrôle par MEB en font des outils de choix.

Cependant, de nouvelles applications (tirées par l’avènement de la microélectronique et des interconnections 3D) et demandant des préparations sur plusieurs centaines de microns ont permis la commercialisation d’une technologie alternative dite à source plasma permettant de dresser de plus grand champ de vue.

Cet exposé fera un rapide rappel sur les applications couvertes par les FIB à source gallium liquide puis illustrera les nouvelles applications générées par les FIB à source plasma.