Préparations d'échantillons pour microscopie analytique de 1 à 30 keV.

Raynald GAUVIN
Department of  Materials Engineering, McGill University,
Montréal, Québec, Canada

La technologie du ion milling pour l'imagerie haute resolution à basse tension d'énergie sera présentée pour des échantillons massifs. Des exemples seront présentés dont des alliages Al-Li pour imagerie en électrons rétrodiffusés.  La préparation d'échantillons massifs pour l'EBSD sera aussi présentée. 

La préparation de lames minces pour des analyses STEM à 30 keV et moins sera couverte avec le FIB, le jet electropolishing et l'UNIMILL. Des applications en EELS et CBED à 30 keV seront présentés avec le nouveau microscope Hitachi SU-9000. Ce microscope a une résolution de 0,24 nm en champ clair STEM à 30 keV et des exemples d'images à haute résolution seront présentés.

L'effet de la qualité de la préparation sur la qualité des résultats obtenus sera discuté. La minimisation de la contamination par le carbone pour des images à haute résolution spatiale sera aussi présentée.
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