Hélène
LECOQ - CREATE
03-07-2007 16:33:34
Bonjour,
Nous souhaitons mettre en place l’ISO 9001 au sein de notre
laboratoire. A ce titre, quelqu’un pourrait’il m’aider concernant la
métrologie pour un MEB. Merci d’avance
- Contrairement
à ce que l'on pourrait croire, la métrologie en MEB est loin d'étre
triviale à mettre en oeuvre. Or dans l'industrie des semiconducteurs,
il s'agit d'un théme essentiel pour la mesure des structures
nanoélectroniques (inferieures à 15 nm). A ma connaissance l' équipe
spécialisée dans ce domaine est, en Europe, l' équipe du
Physikalisch-Technische Bundesanstalt ,Bundesallee 100, D-38116
Braunschweig Internet: http://www.ptb.de
En
décembre dernier , elle a organisé un séminaire sur ce théme, 223rd
PTB-Seminar, à Brunswick 12th & 13th décembre 2006. Vous
trouverez le programme sur
http://www.ptb.de/en/org/5/52/events/223/program.pdf. Un CD des
differentes interventions a été édité et peut-etre pourriez-vous vous
le procurer auprés de l'organisateur ( Harald Bosse).
(réponse de J.
Cazaux - jacques.cazaux@wanadoo.fr)
- Tout d'abord, désolé de vous
décevoir, mais un microscope électronique à balayage n'a jamais été
considéré comme un instrument de métrologie !
Certains microscopes (qui sont plus des robots) utilisés dans le
domaine des semi-conducteurs sont spécifiquement conçus dans ce but
(mesure de dimensions critiques).
Le premier problème que nous rencontrons est que le faisceau, lorsqu'il
balaye la surface de balayage, pivote au niveau des bobines de
balayage, ce qui provoque des distorsions qui n'existeraient pas avec
un faisceau parallèle.
Le deuxième problème est le relief de l'échantillon : nous formons une
projection sur un plan d'objets en trois dimensions, ce qui est
d'autant plus sensible en cas de forte topographie. Les modifications
de projection sont d'ailleurs utilisées pour reconstituer une
topographie 3D à partir de différentes inclinaisons de platine porte
objet.
Le troisième problème est le calibrage du microscope. Vous pourrez
trouver de bonnes indications dans la norme NF ISO 16700 (publiée en
2004, résultat des travaux du comité technique international 202, avec
la contribution du comité X21A de l'AFNOR) qui donne les lignes
directrices pour l'étalonnage du grandissement d'image (en se référant
à des matériaux de référence certifiés). Mais ce n'est vraiment pas
simple : si vous considérez que vous êtes en train de balayer une
certaine surface, l'amplitude de balayage devra être modifiée pour
conserver le même grandissement si vous modifiez la tension
d'accélération, la distance de travail, etc. La correction de ces
derniers paramètres dépend de la qualité de l'étalonnage inclus dans le
logiciel de pilotage du microscope.
En règle générale, les incertitudes sont plus grandes à faible
grandissement, à faible tension d'accélération et/ou à distance de
travail élevée.
En dépit de tout ceci, comme de nombreux autres, il m'arrive
d'effectuer des mesures sur les microscopes ! Je réserve ce type de
mesure aux échantillons plans polis, très très peu attaqués, en
introduisant un réseau croisé de référence simultanément. Les mesures
sont effectuées par comparaison avec l'étalon dans les même conditions.
Tout autre comportement induit des erreurs difficilement quantifiables.
(réponse de F. Grillon - ENSMP)
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